近期，上海光机所量子光学要点试验室与加州理工学院教授汪立宏协作，提醒了光学回忆效应实质便是空间平移不变性，从微观进程描绘了不同散射成分对回忆效应的奉献。相关论文宣布在[Photonics Research 7, 1323 (2019)]。
透过散射介质成像是从生物医学到大气光学广泛研讨的课题，而散斑自相关成像因其简略、快速、无损等特性而备受重视。散斑自相关成像的条件是光学回忆效应，回忆效应的规模决议了成像的视场。扩展成像视场是散斑自相关成像亟待解决的问题。
该研讨中，研讨人员首先从光通过随机相位屏和光阑传达的比照中发现散斑平移不变性，即回忆效应其实便是高阶的空间平移不变性。从而树立双层随机相位屏模型，推导得出回忆效应规模更为精确的公式，通过空间功率谱把体散射介质和随机相位屏联系起来，定量描绘了散射系数、散射次数、介质厚度、各项异性因子对回忆效应规模的影响，并从微观剖析了不同散射成分的回忆效应规模。
该项研讨供给了有关回忆效应的全新物理图画，并基于此图画构建了新式散射介质模型，能够模仿光在散射介质中的相干传达，为扩展散斑自相关成像视场供给了理论基础，也为透过散射介质光学成像供给了有力东西。
图.1 激光通过光阑和随机相位屏的比照
图.2 双层屏模型比照
图.3 模仿和试验成果
来历：中科院量子光学要点试验室
